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        Batch ALD
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        Batch ALD

        原磊納米科技自主研發的雙腔室設計,保證較高的前驅體利用率;
        擁有自主知識產權的進氣和加熱方式,保證高均勻性;
        獨特的腔體結構,避免不同工藝間的交叉污染,方便維護;
        模塊化設計,可調整電、氣位置,獨立進樣空間,兼容高潔凈度生產空間;
        ?一次性批量晶圓處理能力,降低生產和設備成本;
        可兼容多種尺寸樣品,升級方便;
        目前全球性價比最高的工業機臺。
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        市場價
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        產品編號
        所屬分類
        生產型機臺
        數量
        -
        +
        1
        產品描述

        原磊納米科技自主研發的雙腔室設計,保證較高的前驅體利用率;

        擁有自主知識產權的進氣和加熱方式,保證高均勻性;
        獨特的腔體結構,避免不同工藝間的交叉污染,方便維護;
        模塊化設計,可調整電、氣位置,獨立進樣空間,兼容高潔凈度生產空間;
        一次性批量晶圓處理能力,降低生產和設備成本;

        可兼容多種尺寸樣品,升級方便;

        目前全球性價比最高的工業機臺。

        關鍵詞:
        Batch ALD Introduction
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