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        Elegant Cluster-A300
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        Elegant Cluster-A300

        ELEGANT CLUSTER系列是原磊纳米科技的团簇式ALD设备,拥有完全的自主知识产权,符合CE标准。该系列搭载独立控制的真空传输、标准ALD反应腔、进/取样腔和冷却腔可实现多功能材料和器件制备;同时通过热法和等离子体增强腔体的相互配合可以实现真空环境下完整器件的前处理、制备和后处理工艺。独特的冷却腔设计可以提升产品的良率,灵活的进样/取样腔配置可以最大程度上体生产能。该产品可以完全满足半导体先进制程对工艺洁净度的要求,因此适用于中试或大批量生产型客户。
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        产品编号
        所属分类
        Cluster系列
        数量
        -
        +
        库存:
        0
        1
        产品描述

        技术指标:
        样品: 12英寸,向下兼容
        处理能力:批量
        工艺温度:RT~500℃,可定制
        前驱源管路:单腔最大6路独立管路,可定制
        低压源加热系统:包含源瓶和管路,RT~200℃
        真空系统:高性能机械泵、半导体级分子泵
        生长模式:正常生长、停留生长、等离子体增强(可定制)
        等离子体源:0-3000W RPS,可定制
        等离子体放电气源:单腔最大4路独立管路,可定制
        控制系统 :自主研发操作系统 + 触摸屏
        电源: 50-60Hz, 380V/20A交流电源
        均匀性:Al2O3非均匀性<±1%

        应用实例:
               High-k栅氧化层,超级电容器介电材料,高深宽比(如TSV)结构种子层或阻挡层,MEMS中的压电材料,减反射或高通透光学镜片膜,太阳能电池的钝化层和载流子传输层,平板显示器,其它各类特殊纳米薄膜。

        关键词:
        Elegant Cluster-A300
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